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微型液體氣化儀基本參數產品介紹
微型液體氣化儀基本參數產品介紹

產品概述LVD-F1是一款適用于實驗室中CVD或DLCVD實驗的導入液體的一款經濟高效的液體蒸發(fā)輸送系統(tǒng)。其液體流量是通過一個數字液體泵來控制,最大流量為10ml/min。液體被蠕動泵導入到混氣系統(tǒng)后,被系統(tǒng)里的加熱裝置加熱成蒸汽,然后隨導入的氣體被帶入到爐管中。LVD-F1能夠導出多種液體,比如ETOH,SnCl4,TiCl4r,SiHCl3,和Zn(C2H5)2,還有多種有機物混合。對于研究用...

2021-06-18
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  • 旋轉涂布機的工作原理

    “旋涂機”是一種利用旋轉離心力的涂布裝置,也被稱為“旋轉涂布機”。對于平滑的被涂物(工件),能夠形成薄且均勻的涂層。旋涂機的用途非常廣泛,代表性用途包括半導體晶圓的表面處理、光阻涂布等流程類工序,以及光學媒介涂膜、鏡頭底劑及調光液的涂布等。A.旋轉B.被涂物表面C.涂液將涂液滴落在被涂物(工件)的中心,進行高速旋轉。加速旋轉會對涂液施加離心力,使涂液擴散到整個表面并成膜。涂布膜厚取決于涂液的粘度、被涂物的轉速、旋轉啟動加速度、與干燥速度相關的排氣。旋涂的原理是依靠旋轉離心力將...

    20233-22
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  • 手套箱可以提升實驗操作的方便性和效率

    手套箱是一種運用真空技術,將氣體壓力調低,從而實現溫度、環(huán)境與痕跡控制的工具。它主要由不銹鋼殼、真空系統(tǒng)和手套組成,在各種實驗、生產和制造等領域中廣泛應用,已成為科學儀器的重要組成部分。首先,能夠提供理想的操作環(huán)境,免疫外界污染,保護操作物質不受氧化、水解、碳化等影響。因為真空手套箱內部減壓,內部氫氣含量少,而氫氣會對金屬表面形成破壞性作用,而減少氫氣濃度則增加金屬的穩(wěn)定性。此外,不銹鋼材質本身具有抗腐蝕、耐高溫等優(yōu)良性能,可充分保證耐用性和穩(wěn)定性。其次,還具有痕跡控制與防爆...

    20233-20
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  • 提拉涂膜機的工作原理和三方面優(yōu)點介紹

    提拉涂膜機是一種用于包裝行業(yè)的設備,它的作用是在各種材料表面上涂覆一層薄膜,以提高其保護性和美觀性。這種設備的使用范圍非常廣泛,涉及到食品、醫(yī)藥、化妝品、電子等各行各業(yè)中的包裝需求。本文將從原理、類型、優(yōu)點、應用等方面進行介紹。提拉涂膜機的工作原理是:將半透明的薄膜卷材放置在機器的下部,通過裝載卷材,并將其沿著一定的路徑送入機器內部的涂布部分,然后反向運動,從而涂布生成一層均勻厚度的薄膜。此外,還能根據不同的材料和需要的效果,調節(jié)涂布速度、厚度和溫度等參數,以達到更好的包裝效...

    20233-17
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  • 水熱反應釜工作原理

    水熱反應釜可手動螺旋堅固。最高適用溫度為180℃;最高溫度可達230℃水熱反應釜是一種能分解難溶物質的密閉容器??捎糜谠游展庾V及等離子發(fā)射等分析中的溶樣預處理;也可用于小劑量的合成反應;還可利用罐體內強酸或強堿且高溫高壓密閉的環(huán)境來達到快速消解難溶物質的目的。是測定微量元素及痕量元素時消解樣品的得力助手??稍阢U、銅、鎘、鋅、鈣、錳、鐵、汞等重金屬測定中應用,還可作為一種耐高溫耐高壓防腐高純的反應容器,以及有機合成、水熱合成、晶體生長或樣品消解萃取等方面。在樣品前處理消解重...

    20233-14
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  • 電解拋光是什么原理?

    電解拋光是通過對電流密度,溶液粘度幾溫度的控制,使金屬在電解液中選擇性溶解(低凹處進入鈍態(tài)而凸起部位活性溶解)結合溶液光亮劑和陽極極化作用,達到電化學整平拋光的目的。電解拋光過程簡介1.首先采用機械拋光打磨設備及工件表面的氧化皮和各種表面缺陷,使被處理表面初步達到一定的粗糙度。2.再用電解的方式進一步提高被處理表面的光潔度。機械拋光是宏觀消除表面的氧化皮及各種缺陷,而電解拋光是一個微觀整平的過程,進一步提高表面的物化性能。電解拋光的優(yōu)點:1.由于電解拋光具有電化學整平及光亮作...

    20233-9
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  • 3分鐘看懂真空管式爐通燒結氣體操作步驟

    3分鐘看懂真空管式爐通燒結氣體操作步驟真空管式爐通燒結氣體操作步驟:1.首先要注意的就是關閉工作氣體氣路,將管式爐氣體出口端連接真空泵2.打開真空泵電源,打開出氣閥,抽空管體和氣體管路。3.當管式爐真空表到-0.1(指針到盡頭時),關閉進氣閥。靜置一小時,管式爐真空表不移動仍為-0.1時,說明管式爐密封性良好,否則要找出漏氣點改正。也可以使用惰性氣體加壓的方式測試氣密性,加壓一般不超過0.05Mpa。4.旋動旋鈕開氣瓶主閥,緩慢打開出口減壓閥,使出口氣壓在合理范圍。(壓力表上...

    20233-6
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  • 薄膜沉積設備解析——PECVD設備的原理和應用

    薄膜沉積是在半導體的主要襯底材料上鍍一層膜。這層膜可以有各種各樣的材料,比如絕緣化合物二氧化硅,半導體多晶硅、金屬銅等。用來鍍膜的這個設備就叫薄膜沉積設備。從半導體芯片制作工藝流程來說,位于前道工藝中。薄膜制備工藝按照其成膜方法可分為兩大類:物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD),其中CVD工藝設備占比更高。物理氣相沉積(PVD)指將材料源表面氣化并通過低壓氣體/等離子體在基體表面沉積,包括蒸發(fā)、濺射、離子束等;化學氣相沉積(CVD)是指通過氣體混合的化學反應在硅片表...

    20232-28
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  • 反應釜使用注意事項

    1.密封性能高壓釜屬于精密設備,通過密封環(huán)采用錐面相接觸密封形式,借擰緊主螺栓使他們相互壓緊而達到密封的目的。因此必須對密封錐面特別加以愛護,避免各種碰撞而導致其損壞。在裝蓋時,先放置好反應釜釜體,然后將釜蓋按固定位置,小心地裝在釜體上,在擰緊主螺栓時,必須按對角,對稱地分多次逐步擰緊,用力要均勻,不允許釜蓋向一邊傾斜,以達到良好的密封效果,不可超過規(guī)定之擰緊力矩,以防密封面被擠壞或加速磨損。所有螺紋連接件在裝配時,均需涂抹油料或油料調和石墨。如密封面損壞,需重新加工修復,方...

    20232-21
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  • 等離子清洗機的工作清洗原理及在封裝工藝中的應用

    等離子清洗機是一種全新的高科技技術,利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素、光子等。就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔、改性、涂覆、光刻膠灰化等目的。等離子清洗機的工作清洗原理:等離子體是物質的一種存在狀態(tài),通常物質以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在,如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態(tài)中存在下列物質...

    20232-20
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  • 電池測試恒溫箱的用途和主要特點概述

    電池測試恒溫箱的用途:用于測試系統(tǒng)等電池產品的恒溫測試。是高校、科研機構和高新企業(yè)開展節(jié)能環(huán)保,高性能電池測試和經營項目的試驗設備。用以保證電池在測試電流,電壓等參數時的嚴格環(huán)境:無振動,干燥低濕,恒溫試驗。以往電池測試都是在實驗室里,由空調來簡單的控制溫度,特別在夏天溫度波動大,濕度大,再加上實驗人員的出入引起的振動以及溫度和濕度的干擾,使整個環(huán)境達不到實驗的要求。還有空調的常年運轉,耗能大。恒溫箱的出現,有著更優(yōu)良的環(huán)境控制,解決了電池測試的苛刻試驗條件,得到了廣泛的應用...

    20232-17
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  • 實驗室反應釜如何分類和選擇

    實驗室反應釜是一種容積較少,體積較小的反應釜,適用于實驗使用的設備。根據不同的使用情況,我們可以將實驗室反應釜進行一下下幾種分類:1、根據反應釜溫度高低分為:高溫反應釜,中溫反應釜,低溫反應釜,常溫反應釜。2、根據壓力高低分為:高壓反應釜,中壓反應釜,低壓反應釜3、根據攪拌形式不同分為:磁力攪拌、機械攪拌、填料密封攪拌等4、根據反應物質需要防爆的特殊性分為:電機防爆,加熱防爆等5、根據操作方便程度不同分為:常規(guī)型,釜蓋升降型,釜體升降翻轉型,法蘭快開型等6、根據加熱方式的不同...

    20232-15
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  • 電動移液器的優(yōu)點和清潔步驟介紹

    電動移液器穩(wěn)定可靠的集成電路和軟件設計,每一次移液均自動校正,不會因操作者習慣和熟練程度發(fā)生移液的波動,保障實驗結果的重現性,以用戶為中心的界面和鍵盤設置,您只需5分鐘,學會一種模式的使用,即能對全部功能運用自如。移液器具備普通移液、粘液、分液、配液、混液、集液、手動以及多種復合模式,能夠便捷實現諸多復雜操作,提高工作效率,人體工程學設計的把握與指靠結構,輕便的手動退吸嘴設計,讓您擺脫移液操作的手部疲勞與勞損。電路設計配合輕便手動退吸頭,具有超長的電池續(xù)航能力。優(yōu)點介紹:1、...

    20232-14
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